样知道euv光刻机，后世确实被人做出来了，还反手卡住华爲公司的脖子，断绝了高端芯片的生产和供应环节，所以他也一直没怀疑过什么，咬紧牙关放弃某些摆在眼前的利益，拿钱砸给林宝坚博士率领的研发团队。
仔细想想，最开始时候确实打算做浸润式光刻机，后来不知不觉就变成研发采用极紫外光源的euv光刻机，苏业豪甚至为此做好了打一场大战，十年内掏出五十到一百亿美元的准备。
说白了。
euv光刻机有点遥远，属于理论上的未来尖端设备，暂时还只是个没影子的大饼。
而按照林宝坚博士最近和asml公司团队的尝试，只需要做出部分改动，就有机会缩短现有的成熟光源，打破193纳米、157纳米的限制，一举将技术推高到132纳米。
而132纳米的光刻机，理论上已经能够生产45纳米的芯片，在这个基础上进行改良，甚至还能做到更低。
苏业豪沉默几秒钟，想清楚其中的关键。
说不定佳能方面本来走投无路，真心想合作，可随着他们自己的157纳米研究取得进展，已经砸入太多资金，自然而然就不愿看见这边的成功。
157纳米光刻机技术是他们的，完全有机会实现对市场的垄断，而跟这边合作，哪怕真的把产品做出来，绝大多数利益也会归苏业豪所有，这就是差别。
引导林宝坚的团队研究极紫外光刻机，难度实在太大，短期内不会取得进展，从商业角度来看简直对突破157纳米技术，即将进入量产阶段的佳能太有利，涉及到数十、数百亿美元的利益。
难怪之前苏业豪入股asml，佳能立马撂挑子走人，他们很可能以为既然asml加入极紫外联盟，就会继续死磕到底，已经扼杀掉所谓的浸润式光刻机技术，懒得再耗费人手陪着演戏耽误时间。
可惜，林宝坚博士撞完南墙，绕来绕去又绕回被丢掉的
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