地杀进光刻机领域，引爆了战场。
《一个科技盲对euv llc联盟新技术的猜想》
亲爱的朋友们，好久不见。
正如报道中说的那样，我正在中国经历一场流行病的爆发，并且非常不幸地成为了需要隔离观察的对象。
在这里向大家报平安，我很好，很强壮。
近期，虽然不能离开住所，但也一直在关注着这个世界的变化。
尤其注意到了euv llc联盟的专访，并听到了詹姆斯博士对于三石公司、以及未来光刻机领域的评价。
直奔主题：
我认为，詹姆斯博士有点…有点吹牛吹大了。
以下是我对光刻机领域的一些看法和猜想，如果说的不对，还望詹姆斯博士指正。
我的观点是：euv llc根本不可能在短期之内，实现极紫光光刻技术的突破！
科普一下，极紫光是介于紫外线与红外线之间的光源波长。这是紫外线波长的极限，波长再短就是红外线光的波段了。
目前没有任何极紫光光源的商用专利，还谈什么应用极紫光的光刻机呢？
况且，光源还仅仅只是光刻机的一个微不足道的环节，一台光刻机需要数万零部件。
而按照euv llc发布的目标参数来看，每一个零件要符合设计参数要求，就不是当下的科技水平可以达到的。
注意，不是说没有商用配套，而是连实验室里的论证都没有完成。
这个时候谈极紫光，就是在放烟雾弹！
要我说，你们与其拿极紫光来欺骗大众，还不如我帮你们想一个技术方向。
你们往光刻机里注水啊！
光在水中会产生折射，从而缩短了波长，也就马上能突破193纳米的关卡了啊！
多简单的道理？
比极紫光更有可信度，更有操作性啊
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