些领域我们的超分辨光刻机卖了好几十台。”
“但大规模的芯片制造，只能老老实实地发展传统光刻。”
张昱明摇着头道。
目前商微电子的10nm光刻机，走的就是193nm光源浸没式光刻路线，但制造成本太高，没有市场竞争力，又面临着asml的专利壁垒，故而没有推向市场。
euv光刻方面，商微电子与国内很多机构合作，取得了一定的突破，但也面临专利方面的问题。
很多高精尖设备，不是说z国人打破不了垄断，而是专利壁垒挡在了那里。
“你们有没有办法加快它的曝光效率，赶上传统光刻机呢？”
陈今问道，他觉得超分辨光刻这条路线，真的可以继续走下去，应用于大规模芯片制造。
“办法有！但实现太难了，以现有的技术，几乎不可能实现。”
“你先说说你的办法。”
“增加‘笔’的数量，就是把光刻镜头做小！在手指头大小的光刻镜头内，集成1万个微型镜头，让这些微型镜头同时参与工作，完成集成电路的影刻。”
张昱明摇着头，见陈今听得一脸认真，不得不继续道：“芯片内部的结构并不是非常复杂，每个die都是一样的构造，每个晶体管也是相同的，一万个微型镜头，同步完成一样的工作，可大大加快超分辨光刻的效率。”
“甚至如果能做出这样的光刻镜头，我们可以在一台超分辨光刻设备内，集成十组、一百组光刻镜头，在直径超过100英寸的晶圆上进行光刻，10万、100万个的微型镜头同时工作，整体光刻效率，甚至远远超过传统光刻机！”
“但……太难了，以现有的工业制造能力，生产出那样的光刻镜头，至少得等到20年以后。”
问题是二十年后，随着工业技术的提高，传统光刻机的造价也降下去了，超分辨光刻还是不具有明显的竞争
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